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米兰 耶拿分析仪器申请用于使孔径光阑的孔径几何形状适配于光谱仪中的光束路径的方法专利, 能够基于光学模型计算质量度量以确定最佳孔径几何形状

         发布日期:2026-01-23 00:25    点击次数:176

米兰 耶拿分析仪器申请用于使孔径光阑的孔径几何形状适配于光谱仪中的光束路径的方法专利, 能够基于光学模型计算质量度量以确定最佳孔径几何形状

国家知识产权局信息显示,耶拿分析仪器有限两合公司申请一项名为“用于使孔径光阑的孔径的孔径几何形状适配于光谱仪中的光束的光束路径的方法”的专利,公开号CN121351333A,申请日期为2025年7月。

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专利摘要显示,本发明涉及用于使孔径光阑的孔径的孔径几何形状适配于光谱仪中的光束的光束路径的方法,其中,光谱仪包括孔径光阑、多个光学组件和检测器,其中,该方法包括以下步骤:‑提供光学模型,该光学模型描述光束路径并且包括光学组件以及它们的位置和取向,其中,光学模型包括第一自由参数集,第一自由参数集描述孔径几何形状并且包括多个第一自由参数,‑建立质量函数,该质量函数包括光束路径的至少一个质量标准,其中,该质量函数被实施为基于光学模型来计算质量度量,‑插入第一自由参数集的多个值集,并且针对每个值集计算质量度量,以及‑通过选择针对其计算出质量度量的最低值的第一自由参数集的值集来确定孔径几何形状。

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本文源自:市场资讯



 
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